全球博物馆界的顶尖讲者将座谈香港艺术展
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香港,2010年5月4日──香港国际艺术展10(ART HK 10)将于5月27至30日于香港会议展览中心(香港会展)举行,大会云集了来自全球29个国家、超过150间画廊参与,展出世界顶尖艺术家的精心杰作,并将同时举办一系列精彩艺术活动,力求燃亮香港艺坛,使浓厚的艺术气息冲破会展围墙,蔓延至全港不同角落。 其中一项名为Stand Talks的重头活动,便诚邀了29位参展国际艺术家亲临会场,与来宾大谈创作动力及经验,提供第一手的亲身体验。艺门画廊(Pékin Fine Arts)的陈丽云(Movana Chen)、Galerie Lena Brüning的Johannes Weiss,以及代表Sullivan + Strumpf的Penny Byrne等均在名单之列。 由亚洲艺术文献库(Asia Art Archive)举办的官方座谈活动后室谈(Backroom Conversations)则请来了多位来自博物馆界的顶尖讲者,联袂出席参与讨论,星级与会者阵容更包括来自纽约当代艺术博物馆(MoMA)、古根海姆美术馆(Guggenheim)及东京当代美术馆(MoCA)的代表,就艺坛的最新发展发表独到见解。而享负盛名的Intelligence Squared Asia 辩论环节今年更将载誉重临,将就「一个伟大的艺术家并不需要高超的技巧」(You Don’t Need Great Skill to be a Great Artist)一题进行连番激辩,身兼「南华早报│艺术世界之未来」评委之一的Hans Ulrich Obrist 也将成为辩论的评审,令节目更锦上添花。 除此以外,香港国际艺术展10(ART HK 10)亦将展示各类型实验性艺术作品,配合录像及装置艺术的展览,开拓艺术作品的界限,为创作摆脱藩篱,令来宾更深体验艺术世界的奥秘。如日本艺坛新星山口典子(Noriko Yamaguchi)即为当中典范。她尝试透过身体的转化及耐力,探索科技、神话学与女性主义的领域,大胆地采用不同物料掩饰身体,势必成为艺术展重头戏之一。山口的手机女孩(Keitai Girl)演出将于5月26日晚上八时在会展三号展览厅的贵宾优先场内率先举行。 |
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